| 2022年度 (2023年3月修了) 田中研 | ||
| 修士 | 岡村和哉 | 二源系ファインチャネルミストCVD法を用いたCu2SnS3薄膜の作製 |
| 修士 | 羽田涼馬 | 発光分光によるCu2Sn1-xGexS3多結晶バルク並びに薄膜の欠陥評価 |
| 修士 | 岩﨑千寛 | Cu2Sn1-xSixS3バルク作製方法の改善と発光分光法による欠陥評価 |
| 修士 | 椎葉鉄平 | ゾルゲル硫化法により作製するCu2Sn1-xGexS3薄膜における 品質改善手法の検討 |
| 修士 | 菅井 一博 | 抵抗加熱蒸着法によるCu2Sn1-xSixS3薄膜の作製 |
| 修士 | 藤島 睦 | 溶液浸漬法を用いた銅ハライド薄膜におけるハロゲン欠陥の低減 |